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磁控溅射沉积

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research热蒸发/磁控溅射

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产品概述:


主要功能:多靶复合磁控溅射镀膜机,可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要,具有极高的实用性和通用性(三靶、垂直与共溅射合一、在线清洗基片等),能够提供高水平功能薄膜研制,特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、自洁净薄膜、等领域前沿研究,同时可选配等离子刻蚀功能和辅助镀膜。


详细信息

1. 主体和腔室。全封闭框架结构,机柜和主机为一体式结构,骨架默认为白色,门板为白色,四只脚轮,可固定,可移动。

真空腔室采用优质0Cr18Ni9不锈钢材质(SUS304),腔体尺寸不小于为:ø450x500mm;真空室为前开门方式,采用铰链连接,自动锁紧,并配有门到位开关,彻底杜绝误操作;真空腔室设置DN100观察窗口,位置在真空腔体正前方。

2. 真空系统。

2.1 极限真空度

   ≤Pa(空载、经充分烘烤除气并充干燥氮气)。

2.2 真空配置。 前级泵为机械真空泵,最大抽速优于8L/S,超高分子泵一台,抽速1200L/S

2.3 真空测量。采用进口全量程真空计,优选德国莱宝与瑞士inficon

3. 工件盘系统。配备工件盘一套,可安装4英寸基片1片,选配高温工件盘<800℃。

4. 磁控溅射系统。配置三只2-4英寸溅射阴极,三只靶均能兼容直流和射频溅射,并可单独自由切换,磁控靶安装与真空室底部,向上溅射成膜;

5.充气系统。二路分别配置MFC质量流量控制器,均为0-100SCCM,准确度±1%F.S,线性±0.5%F.S,重复精度±0.2%F.S

5. 其他。配置断水保护,配置冷水机组,冷水机制冷量为5000Kcal;设备配备小型静音空压机;保修期1年,维修响应时间不超过24小时;

6. 操作系统及安全监控。采用人机界面+西门子PLC实现对设备集中自动控制;所有控制系统和电气安装均与主机集成在一起,避免控制柜与主机之间线路放在地上或从顶部引入带来的问题,模块化设计能确保社保维护维修的便捷性。

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